Resumo

AMARA, Marina et al. Efeito do modo de ativação na resistência a flexão de cimentos resinosos duais. RGO, Rev. gaúch. odontol. (Online) [online]. 2013, vol.61, n.3, pp. 363-367. ISSN 1981-8637.

Objetivo Comparar a influência do modo de ativação de dois cimentos semelhantes, porém de fabricantes distintos. Métodos Barras (2 x 2 x 12 mm) dos cimentos RelyX ARC (3M ESPE, MN, USA) e Enforce (Dentsply, Rio de Janeiro, Brasil) (ENF) foram confeccionadas com auxílio de uma matriz de teflon bipartida, e três modos de fotopolimerização foram testados: (1) L: fotoativação por LED / 40 segundos; (2) H - fotoativação por luz halógena / 40 segundos; e (3) Q - apenas ativação química (ausência total de luz). Os grupos formados foram: ARC-L; ARC-H; ARC-Q; Enf-L; Enf-H e Enf-Q, com 8 amostras cada. Após 24 horas, o teste de miniflexão de três pontos foi aplicado em máquina universal de testes. Resultados O cimento ARC apresentou resultados de resistência superiores ao cimento Enf. O modo de ativação agiu de forma semelhante nos dois cimentos testados, sendo que a ativação por luz, seja L ou H, aumentou a resistência para ambos, comparada a ativação Q. Conclusão (1) O cimento RelyX ARC (3M ESPE, MN, USA) apresentou maior resistência à flexão de três pontos quando comparado ao cimento Enforce (Dentsply, Rio de Janeiro, Brasil); e (2) a ativação por luz aumentou a resistência para cimentos resinosos duais.

Palavras-chave : Resistência de materiais.; Cimentos de resina.; Autocura de resinas dentárias..