Resumo

BONACHELA, Wellington Cardoso. Avaliação de implante dental comprometido empregando microscopia eletrônica de varredura e espectrometria dispersiva de raio X. Innov. Implant. J., Biomater. Esthet. (Online) [online]. 2010, vol.5, n.3, pp. 75-78. ISSN 1984-5960.

O sucesso e durabilidade dos implantes dentais são observados na maior parte dos tratamentos para reposição de dentes, entretanto, algumas fallhas, relatadas na literatura, podem comprometer a reabilitação dos pacientes. Um paciente de 46 anos de idade foi reabilitado com uma prótese clássica de Brånemark, entretanto, um implante da região anterior da mandíbula, que sustentava a mesma, após 18 meses da instalação apresentou mobilidade, dor, e exsudação, sendo necessária sua remoção. O processo de osseointegração se dá entre as superfícies ósseas e óxidos formados sobre a superfície do titânio comercialmente puro, utilizado na fabricação dos implantes dentais. Entretanto, agentes contaminantes podem se desprender da camada superficial dos implantes, potencializar a resposta inflamatória e alterar o processo de cicatrização, o que pode levar à perda do implante. Com o objetivo de avaliar a presença de possíveis contaminantes na superfície do implante perdido, o mesmo foi encaminhado ao Centro de Caracterização e Desenvolvimento de Materiais (CCDM) para análise, por microscopia eletrônica de varredura e espectrometria dispersiva de raio X (MEV/EDS). Verificou-se a presença de elementos, como C, Ca, Na, Cl e Si. Esses elementos podem ser originários dos fluidos corporais ou dos processos finais de fabricação, não sendo possível, pelas técnicas utilizadas, estabelecer sua origem.

Palavras-chave : Implantes dentários; Raios X; Microscopia eletrônica de varredura.